Тип публикации: патент
Год издания: 2026
Аннотация: Изобретение относится к области плазменной обработки внутренней поверхности капилляров, в частности капилляров микрофлюидных устройств для активации и изменения смачиваемости. Технический результат - увеличение коэффициента полезного действия (КПД) плазменной обработки капилляров чипа путем уменьшения объема горения плазмы. В устройстве для поджига диэлектрического барьерного разряда в капиллярах микрофлюидного чипа корпус микрофлюидного чипа является диэлектрической ёмкостью, обкладками служат токопроводящий стержень, который размещается в отверстии для подключения трубок к чипу, и металлическая пластина, которая размещается с другой стороны чипа. Анод покрыт диэлектриком со всех сторон для исключения пробоев вокруг корпуса чипа - со стороны чипа 1 мм стекла, с боковой стороны 12 мм эпоксидной смолы. 6 ил. FIELD: plasma treatment. SUBSTANCE: invention relates to the field of plasma treatment of the inner surface of capillaries, in particular capillaries of microfluidic devices for activation and change of wettability. In the device for igniting a dielectric barrier discharge in the capillaries of a microfluidic chip, the body of the microfluidic chip is a dielectric capacitor, the plates are a conductive rod, which is placed in the hole for connecting the tubes to the chip, and a metal plate, which is placed on the other side of the chip. The anode is covered with a dielectric on all sides to prevent breakdowns around the chip body - 1 mm of glass on the chip side, 12 mm of epoxy resin on the side. EFFECT: increase in the efficiency of plasma treatment of chip capillaries by reducing the volume of plasma combustion. 1 cl, 6 dwg