Тип публикации: статья из журнала
Год издания: 2026
Идентификатор DOI: 10.17223/00213411/69/4/9
Ключевые слова: thin magnetic film, Uniaxial magnetic anisotropy, effective saturation magnetization, scanning ferromagnetic resonance spectrometer, тонкая магнитная пленка, одноосная магнитная анизотропия, эффективная намагниченность насыщения, сканирующий спектрометр ферромагнитного резонанса
Аннотация: Разработана магнитная система Хальбаха, создающая однородное поле в плоскости тонких магнитных пленок (ТМП) при их изготовлении по технологии магнетронного напыления. Магнитное поле системы превышает по величине градиентное поле магнетрона примерно в 60 раз на площади 60´48 мм2. Это позволяет существенно уменьшить неоднородности распределения магнитных характеристик ТМП по площади образцов. Система сконструирована на основе четырех магнитных линеек, каждая из которых состоит из 8 кобальт-самариевых магнитов размерами 10×10×10 мм. Факт уменьшения неоднородностей распределений магнитных характеристик по площади ТМП подтвержден измерениями на сканирующем спектрометре ферромагнитного резонанса 12 образцов толщиной ~ 55 нм, полученных одновременно распылением мишени состава Ni80Fe20 на подложки из кварцевого стекла размерами 12´12´0.5 мм. A Halbach magnetic system has been developed that generates a uniform field in the plane of thin magnetic films (TMF) produced using magnetron sputtering technology. The system’s magnetic field is approximately 60 times greater than the gradient field of a magnetron over an area of 60×48 mm2. This significantly reduces the non-uniformity of the TMF magnetic characteristic distribution over the sample area. The system is constructed using four magnetic bars, each composed of eight cobalt-samarium magnets measuring 10×10×10 mm. The reduction in non-uniformity of the magnetic characteristic distribution over the TMF area was confirmed by measurements using a scanning ferromagnetic resonance spectrometer on 12 samples, each ~ 55 nm thick, obtained by simultaneously sputtering a Ni80Fe20 target onto 12×12×0.5 mm quartz glass substrates.
Журнал: Известия вузов. Физика
Выпуск журнала: Т. 69, № 4
Номера страниц: 82-92
ISSN журнала: 00213411
Место издания: Томск
Издатель: Национальный исследовательский Томский государственный университет