Особенности интеграции графенов в технологические процессы микроэлектроники : научное издание

Описание

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2013

Ключевые слова: графен, graph, atomic force microscopy, mechanical stratification, of graphite, chemical vapor deposition of ethanol, aerosol method, x-ray diffractometry, атомно-силовая микроскопия, механическое расслоение графита, химическое осаждение паров этанола, аэрозольный метод, рентгеновская дифрактометрия

Аннотация: Разработаны методики формирования интегрированных графеновых структур на поверхности кремниевых пластин на основе методов механического, химического расщепления и химического осаждения из газовой фазы. Проведены исследования с использованием атомно-силовой микроскопии и рентгеновской дифрактометрии дефектности полученных структур. Показать полностьюВыявлена закономерность в уменьшении размера графеновых пластин при увеличении давления в аэрозольном методе нанесения механически расщепленного графита. Продемонстрирована корреляция топографических дефектов графенового материала и структурных дефектов, наблюдаемых на дифрактограммах. The techniques of the formation of the integrated graphene structures on the surface of silicon wafers based on the methods of mechanical, chemical degradation and the chemical vapor deposition have been elaborated. The studies using the atomic force microscopy and X-ray diffraction defects of the produced structures have been conducted. The regularity in reducing the size of graphene wafers with increasing pressure in the aerosol method of the mechanically cleaved graphite deposition has been revealed. The correlation of the topographical defects of the graphene material and the structural defects observed on the diffraction patterns has been demonstrated.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Известия высших учебных заведений. Электроника

Выпуск журнала: 3

Номера страниц: 33-42

ISSN журнала: 15615405

Место издания: Зеленоград

Издатель: Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"

Персоны

  • Бобринецкий Иван Иванович (Национальный исследовательский университет «МИЭТ»)
  • Комаров Иван Александрович (Национальный исследовательский университет «МИЭТ»)
  • Лаврентьев Кирилл Константинович (Национальный исследовательский университет «МИЭТ»)
  • Левин Денис Дмитриевич (Национальный исследовательский университет «МИЭТ»)
  • Симунин Михаил Максимович (Национальный исследовательский университет «МИЭТ»)
  • Неволин Владимир Кириллович (Национальный исследовательский университет «МИЭТ»)
  • Квачева Лариса Дмитриевна (Институт элементоорганических соединений им. А.Н. Несмеянова РАН)
  • Червонобродов Семен Павлович (ООО «Карбонлайт»)
  • Буриан Анджей (Университет Силесиа)
  • Хавелек Лукас (Университет Силесиа)
  • Возница Наталья (Университет Силесиа)

Вхождение в базы данных